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题名:
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光学投影曝光微纳加工技术 guang xue tou ying pu guang wei na jia gong ji shu / 姚汉民，胡松，刑廷文著 , |
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ISBN:
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7-5639-1669-5 价格： CNY46.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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285页 图，肖像 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 北京工业大学出版社 出版日期： 2006 |
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内容提要:
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《光学投影曝光微纳加工技术》系统介绍主流技术－光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用和发展前景、详细介绍投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成。 |
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主题词:
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光学投影系统 电子束光刻 |
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中图分类法:
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TH761.8 版次： 4 |
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主要责任者:
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姚汉民 yao han min 著 |
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主要责任者:
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胡松 hu song 著 |
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主要责任者:
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刑廷文 xing ting wen 著 |
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附注:
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国家科学技术学术著作出版基金资助 |